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川口健次助教が表面技術協会第134回講演大会で優秀講演賞を受賞

 2016年9月1〜2日に開催されました「表面技術協会第134回講演大会」におきまして、研究開発推進機構の川口健次助教が第18回優秀講演賞を受賞されました。

 川口助教は、ナノサイズのIrO2粒子がアモルファスのTa2O5マトリックス中に高分散した『ナノ/アモルファスハイブリッド触媒』を作製して酸性水溶液中におけるアノード反応である酸素発生(主反応)とPbO2電着(副反応)に対する反応過電圧を独立に制御することに成功し、その研究内容が高く評価されました。

 なお、2017年3月9〜10日に開催されました「表面技術協会第135回講演大会」におきまして、表彰式が行われました。


 詳細につきましては、
http://se.doshisha.ac.jp/doc/news/2014/20170316.html
をご覧ください。

2017-03-21 大学近況

 

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